一、系統概述
 
多晶硅還原爐體及鐘罩干式清理系統適用硅烷法多晶硅生產(chǎn)工藝，用于還原車(chē)間反應釜中硅污染物附著(zhù)力不大的工況條件下無(wú)污染干式清洗。清洗時(shí)利用上下移動(dòng)和旋轉機構帶動(dòng)高壓氣體噴吹以及特殊旋轉刷組合機構近距離對反應釜表面進(jìn)行噴吹和接觸式清掃達到清洗的目的。通過(guò)清洗旋轉調速機構可滿(mǎn)足各工況的要求。清洗的同時(shí)采用特殊除塵凈化器一次性進(jìn)行除塵凈化。

二、系統特點(diǎn)

1、裝置為移動(dòng)單元式結構；

2、凈化后的空氣可達到10萬(wàn)級的凈化精度可完全在室內排放；

3、采用全封閉干式的清洗方式確保對環(huán)境不出現二次污染；

4、電氣設計按隔爆的各項要求執行、 設備設有靜電導出裝置；

5、控制方式可為全自動(dòng)或手動(dòng)控制；

6、運行總功率小，噪聲低。
 
三、清掃工藝

反應釜吊裝至清洗臺上→定位→連接→啟動(dòng)凈化器→啟動(dòng)旋轉→上下移動(dòng)機構→高壓氣體沿壁噴吹→旋轉刷至上而下接觸移動(dòng)清掃→凈化氣體置換→反應釜吊起→檢查。

四、設備組成

主要由清洗平臺、氣體噴吹裝置、吸塵輸送管道、控制閥門(mén)、動(dòng)力機構、清洗機構、各管道快速接頭、除塵凈化器、電氣控制系統等組成。

主要部件采用進(jìn)口零部件，確保運行可靠穩定、使用周期長(cháng)。操作維修簡(jiǎn)單。